O 21: Oberflächenreaktionen (II)
Dienstag, 28. März 2000, 16:15–19:15, H44
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16:15 |
O 21.1 |
Stress-Stabilized Oxidation of Silicon — •Hans-Joachim Müssig, Jarek Dabrowski, Karl-Ernst Ehwald, and Peter Gaworzewski
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16:30 |
O 21.2 |
Bestimmung der Aktivierungsenergie der Diffusion von Sauerstoff in Vanadium — •Hubert Paulus, Gabor Kiss, Karl-Heinz Müller und Janos Giber
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16:45 |
O 21.3 |
HREELS Untersuchungen an sauerstoffreichen Ru(0001)-Oberflächen — •B. Krenzer, A. Böttcher und H. Conrad
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17:00 |
O 21.4 |
In-situ Untersuchungen der Erosion und D-Abstraktion durch atomaren Wasserstoff auf Si(111) — •Andreas Dinger
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17:15 |
O 21.5 |
Verbindungsbildung auf Beryllium beim Beschuß mit C+- und CO+-Ionen — •P. Goldstraß, K. Klages und Ch. Linsmeier
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17:30 |
O 21.6 |
Chemische Reaktionen bei der Bildung von Kohlenstoff-Mischsystemen — •Ch. Linsmeier, J. Luthin und P. Goldstrass
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17:45 |
O 21.7 |
Einfluß von Sauerstoff auf die Carbidbildung von Wolfram — •J. Luthin, Ch. Linsmeier und J. Wanner
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18:00 |
O 21.8 |
Eine neue Methode zur Absolutquantifizierung des Flusses und der Winkelverteilung einer Quelle für atomaren Wasserstoff — •Thomas Schwarz-Selinger, Achim von Keudell und Wolfgang Jacob
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18:15 |
O 21.9 |
Elektronische Lokalisationsphänomene und Ladungsdichtewellen in in situ interkalierten Schichtgittern — •H. J. Crawack, Christian Pettenkofer und Volker Eyert
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18:30 |
O 21.10 |
Orientation and Self-Assembly of hydrophobic fluoro-alcyl-silanes — •D. Schondelmaier, J. Morenzin, S. Cramm, and W. Eberhardt
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18:45 |
O 21.11 |
Temperatur–programmierte XPS an Ethylen auf Ni(100) — •R. Neubauer, R. Denecke, M.G. Garnier, N. Witkowski, A. Nilsson und H.–P. Steinrück
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19:00 |
O 21.12 |
Detektion nichtadiabatischer Reaktionen an Oberflächen von Metall/Isolator/Metall Systemen — •Guido Kritzler, Detlef Diesing und Andreas Otto
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