Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 24: Rastersondentechniken (III)
O 24.13: Vortrag
Mittwoch, 29. März 2000, 17:30–17:45, H44
Abhängigkeit der Abrißkraft von AFM-Cantilevern auf Silizium von Temperatur und relativer Luftfeuchte — •Peter Spizig1, Joachim Koenen1 und Othmar Marti2 — 1WITec GmbH, Hörvelsinger Weg 6, 89081 Ulm — 2Experimentelle Physik, Universität Ulm, Albert Einstein Allee 11, 89081 Ulm
Die Beschreibung technischer Oberflächen auf kleinster Skala spielt eine immer größere Rolle, da mit abnehmenden Strukturgrößen, zum Beispiel in der Mikro- und Nanotechnologie, Kenngrößen wie Rauheit und Adhäsion von Oberflächen die Funktionalität der Bauteile bestimmt.
Die Erfassung von quantitativen Größen ist dabei noch immer eine der größten Herausforderungen der Rasterkraftmikroskopie. Ein wichtiger Meilenstein auf dem Weg zu diesem Ziel ist das Verständnis des Einfluß von Umweltbedingungen wie Temperatur und relativer Luftfeuchtigkeit auf die rasterkraftmikroskopisch erhaltenen Meßdaten.
Es werden Messungen präsentiert, die den Einfluß der Temperatur und der relativen Luftfeuchtigkeit auf die Abrißkraft zwischen AFM-Cantilevern und Silizium zeigen. Die Messung der Abrißkraft erfolgte mittels Kraft-Distanz-Kurven und des Pulsed-Force-ModeTM.