Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe
O: Oberflächenphysik
O 24: Rastersondentechniken (III)
O 24.2: Vortrag
Mittwoch, 29. März 2000, 14:45–15:00, H44
Rasterkraftmikroskopie im Vakuum mit atomarer Auflösung — •F.J. Giessibl, H. Bielefeldt, S. Hembacher, U. Mair und J. Mannhart — Experimentalphysik VI, EKM Institut für Physik, Universität Augsburg, D-86135 Augsburg
Seit einigen Jahren ist es möglich,
Oberflächen mit dem Kraftmikroskop mit atomarer Auflösung
abzubilden.
Ursprünglich wurde dazu ein Federbalken mit einer
Amplitude von ca. 10 nm in der Nähe einer Oberfläche oszilliert
und die Änderung seiner Eigenfrequenz als bildgebendes Signal
verwendet. Aus dieser großen Amplitude resultiert eine große
Empfindlichkeit für langreichweitige Kräfte. In der atomar
aufgelösten Kraftmikroskopie sind dagegen vor allem die
kurzreichweitigen Kräfte relevant. Außerdem erwartet man ein optimales
Signal-Rauschverhältnis für
Amplituden von 0.3-1 nm [1].
Mit einem neuen, auf einer Quarzstimmgabel basierenden Kraftsensor ist
es gelungen, atomare
Auflösung auf der Si (111)-(7x7) Oberfläche mit einer Amplitude
<1 nm zu erzielen.
Diese Arbeit wurde vom BMBF (Projekt
Nummer 13N6918/1) gefördert.
[1] F. J. Giessibl, H. Bielefeldt, S. Hembacher, J. Mannhart, Appl. Surf. Sci. 140, 352 (1999)