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Regensburg 2000 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 25: Methodisches

Wednesday, March 29, 2000, 14:30–18:00, H45

14:30 O 25.1 Implementierung einer Projektor-augmentierten Pseudopotentialmethode — •W. Kromen, S. Blügel und K. Schroeder
14:45 O 25.2 The Role of Atomic Relaxation and of the xc Functional in the Calculation of the Surface Stress Tensor — •Weixue Li, Frank Wagner, and Matthias Scheffler
15:00 O 25.3 Bestimmung der segregierenden Adlayer Konzentration aus Dotierprofilen — •Michael Oehme, Matthias Bauer und Erich Kasper
15:15 O 25.4 Elimination von Geisteratomen in der LEED-Holographie — •A. Seubert, D.K. Saldin, J. Bernhardt, U. Starke und K. Heinz
15:30 O 25.5 Genauigkeit und inneres Potential in der LEED-Strukturbestimmung — •K. Heinz, S. Walter, V. Blum, L. Hammer, S. Müller und M. Giesen
15:45 O 25.6 Die Rolle thermischer Schwingungen bei der Bestimmung chemischer Zusammensetzungen mittels LEED — •V. Blum, L. Hammer, W. Meier, K. Heinz, M. Schmid, E. Lundgren und P. Varga
16:00 O 25.7 Analyse von SPA-LEED Profilen mit der Maximum Entropy Methode — •Martin Gierer, Alexander Iglesias, Alexander Hirnet und Wolfgang Moritz
16:15 O 25.8 Inhomogene Linienverbreiterung in der Summenfrequenz-Schwingungsspektroskopie — •W. Daum und F. Dederichs
16:30 O 25.9 Der Einfluß mechanischer Kräfte auf die Struktur molekularer Filme. Eine Untersuchung mittels optischer Frequenzverdopplung (SHG) — •Martin T. Strobel, Manfred Buck und Michael Grunze
16:45 O 25.10 Aufbau einer Apparatur zur Abbildung einzelner Moleküle durch Holographie mit Elektronenpunktquellen — •Andreas Eisele, Berthold Völkel, Andreas Glenz, Barbara Jäger, Armin Gölzhäuser und Michael Grunze
17:00 O 25.11 Mikrospektroskopie und Spektromikroskopie mit PEEM unter Verwendung eines neuartigen bildgebenden Energiefilters — •M. Merkel, M. Escher, J. Settemeyer, A. Oelsner, O. Schmidt, Ch. Ziethen und G. Schönhense
17:15 O 25.12 Geometrische Abbildungsdeformation ein- und zweidimensionaler Strukturen aufgrund von Probenkontaktpotentialdifferenzen im Emissionselektronenmikroskop — •S. A. Nepijko, Ch. Ziethen, G. Schönhense, M. Merkel und M. Escher
17:30 O 25.13 Röntgenphotoelektronenbeugung an der (√3×√3)Sb/Si(111) — •M. Schürmann, S. Dreiner, C. Westphal und H. Zacharias
17:45 O 25.14 Corrugation vs Resistance – A Pictorial Model of the STM — •Mustafa H.A. Riza, Christian Bracher, and Manfred Kleber
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