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O: Oberflächenphysik
O 28: Oxide und Isolatoren (I)
O 28.7: Vortrag
Donnerstag, 30. März 2000, 12:45–13:00, H44
Erzeugung von CrxOy–Schichten mit quadratischer Symmetrie mittels Cr–Deposition auf dicken Wasserschichten ∗ — •Ralph Domnick, Jörg Pantförder, Christian Ammon, Georg Held und Hans–Peter Steinrück — Universität Erlangen–Nürnberg, Physikalische Chemie II, Egerlandstr. 3, D–91058 Erlangen
Dünne Cr2O3–Schichten in hexagonaler (0001)–Orientierung lassen sich durch Deposition von Cr–Atomen bei Sauerstoffdrücken im Bereich oberhalb 10−8 mbar auf verschiedenen Substraten bzw. durch direkte Oxidation der Cr(110)–Oberfläche erzeugen [1]. Falls Chrom–Atome auf eine mit Wasser (ca. 5 – 10 ML, 120 K) vorbedeckte Cu(111)–Oberfläche deponiert werden, bildet sich zunächst eine Hydroxidschicht. Tempern oberhalb 750 K führt zur Umwandlung in eine geordnete Oxidschicht, deren Oberfläche ein quadratisches Grundgitter aufweist.
Diese wurde mittels XPS, UPS und LEED in Abhängigkeit von Temperatur und Schichtdicke untersucht. Der Vergleich mit der ebenfalls auf Cu(111) hergestellten Cr2O3(0001)–Schicht zeigt, daß die rechtwinkelige Schicht weniger Sauerstoff und Cr–Atome in mindestens zwei verschiedenen Oxidationsstufen (vermutlich III und 0) enthält. Bei 120 K adsorbieren auf dieser Oberfläche weder CO noch CO2 noch O2, was auf eine Sauerstoffterminierung hinweist. Wasser adsorbiert bei 120 K und desorbiert molekular bei 160 K.
∗ Gefördert von der DFG unter Ste 620/2 – 2.
[1] H. M. Kennett, A.E. Lee, Surf. Sci. 33 (1972) 377.