Regensburg 2000 – scientific programme

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O: Oberflächenphysik

O 31: Nanostrukturen

O 31.4: Talk

Thursday, March 30, 2000, 17:00–17:15, H36

Nanostrukturierung von selbstaggregierender Monolagen mittels Elektronenstrahllithographie — •Wolfgang Geyer¹, Volker Stadler¹, Wolfgang Eck¹, Thomas Weimann², Peter Hinze², Armin Gölzhäuser¹ und Michael Grunze¹ — ¹Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 253, 69120 Heidelberg — ²Physikalisch Technische Bundesanstalt, Bundesallee 100, 38116 Braunschweig

Selbstaggregierende Monolagen aus aromatischen und aliphatischen Thiolen wurden auf Gold präpariert und auf ihre Verwendung als Resistmaterialien in der Elektronenstrahllithographie untersucht. Bestrahlungsexperimente zeigten, daß die aliphatischen Moleküle als Positiv- und die aromatischen als Negativresist verwendet werden können [Geyer et. al., Appl. Phys. Lett., Vol. 75 (1999) 2401]. Durch naßchemisches Ätzen ließen sich die Strukturen auf das Goldsubstrat übertragen. Mit dem LION Elektronenstrahllithographiesystem wurden Proben mit Elektronenenergien von 2.5 keV belichtet, anschließend naßchemisch entwickelt. Strukturgrößen von bis zu 30 nm wurden realisiert. Die Erzeugung von Templaten für eine chemische Oberflächenstrukturierung und weitergehende Strukturierungskonzepte werden vorgestellt.