O 33: Oxide und Isolatoren (II)
Donnerstag, 30. März 2000, 16:15–19:00, H44
 |
16:15 |
O 33.1 |
Einfluß von Sauerstoffleerstellen und OH-Gruppen auf die Zustandsdichte an der V2O5 (010)-Oberfläche: Theoretische Untersuchungen — •R. Družinić und K. Hermann
|
|
|
|
16:30 |
O 33.2 |
Strukturuntersuchung von dünnen Vanadium- und Vanadiumoxidfilmen auf Cu3Au(100) — •Dirk Ahlbehrendt und Horst Niehus
|
|
|
|
16:45 |
O 33.3 |
Rastertunnelmikroskopie und -spektroskopie an Vanadiumoxidstrukturen — •Ralf- Peter Blum und Horst Niehus
|
|
|
|
17:00 |
O 33.4 |
LEED-Untersuchungen an alpha-Fe2O3(0001)-Oberflächenphasen in Abhängigkeit des Sauerstoffdrucks — •Guido Ketteler und Werner Weiss
|
|
|
|
17:15 |
O 33.5 |
Oxidation von Gold im Sauerstoff-Plasma — •H.-G. Boyen, B. Koslowski, C. Wilderotter, G. Kästle, P. Ziemann, R. Wahrenberg und P. Oelhafen
|
|
|
|
17:30 |
O 33.6 |
Oxidation von CoGa untersucht mit oberflächensensitiver Röntgenstreuung — •Reinhard Streitel, A. Stierle, F. U. Renner, H. Dosch und R. Franchy
|
|
|
|
17:45 |
O 33.7 |
Die Oxidation von Ni3Al(100) bei 300 und 1100 K — •Ioan Costina und René Franchy
|
|
|
|
18:00 |
O 33.8 |
XPS-Untersuchungen zur Reaktivität von Tantaldeponaten auf Al2O3/NiAl(110) — •B. Richter, J. Wilkes, H. Kuhlenbeck und H.-J. Freund
|
|
|
|
18:15 |
O 33.9 |
Wachstum von Al2 O3 auf Ni3 Al(111): Oxidphasen bei 300, 600, 800 und 1000K — •A. Rosenhahn, J. Schneider, C. Becker und K. Wandelt
|
|
|
|
18:30 |
O 33.10 |
Untersuchung der Al2O3/NiAl(110)-Oberfläche mit Röntgen-beugung — •F. Wendler, O. Bikondoa, X. Torelles, H. Isern, G. Castro und W. Moritz
|
|
|
|
18:45 |
O 33.11 |
Oberflächenempfindliche Röntgenbeugung an ultradünnen Al2O3-Schichten auf NiAl(110) — •Frank Uwe Renner, Andreas Stierle, Reinhard Streitel und Helmut Dosch
|
|
|
