Regensburg 2000 – scientific programme
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O: Oberflächenphysik
O 33: Oxide und Isolatoren (II)
O 33.7: Talk
Thursday, March 30, 2000, 17:45–18:00, H44
Die Oxidation von Ni3Al(100) bei 300 und 1100 K — •Ioan Costina und René Franchy — Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik des Forschungszentrums Jülich, D-52425 Jülich, Germany
Die Oxidation von Ni3Al(100) bei 300 und 1120 K wurde mittels Auger Elektronen Spektroskopie (AES), Beugung niederenergetischer Elektronen (LEED) und Elektronenenergieverlustspektroskopie (EELS) untersucht. Adsorption von Sauerstoff bei 300 K führt zur Bildung einer amorphen Al2O3-Schicht an der Oberfläche. Durch Anlassen dieser Oxidschicht auf 1100 K erhält man eine geordnete Al2O3-Schicht, dabei zeigen sich im EEL Spektrum die für γ-Al2O3 typischen Schwingungsfrequenzen bei ν1=440 cm−1, ν2=660 cm−1 und ν3=908 cm−1. Oxidation direkt bei 1100 K führt zur Ausbildung homogener Al2O3-Schichten mit einer Dicke von ca. 5 Å. Die Oxidüberstruktur zeigt eine pseudo-12fach Symmetrie. Diese wird verursacht durch die Bildung von hexagonalen Domänen, die gegeneinander um 90∘ rotiert sind.