Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 39: Adsorption an Oberflächen (V)
O 39.10: Vortrag
Freitag, 31. März 2000, 13:30–13:45, H44
Untersuchungen zur Metallizität der Si(111)(1×1):H-Oberfläche — •R. Schillinger1, Chr. Weindel2, R. Platzer2, H. Winnefeld2, H.J. Jänsch2, D. Fick2, G. Fahsold3 und A. Pucci3 — 1MPI für Kernphysik, Postfach 103980, D-69029 Heidelberg — 2Fachbereich Physik der Philipps-Universität, D-35032 Marburg — 3Institut für angewandte Physik, Universität Heidelberg, D-69120 Heidelberg
Ergebnisse von Messungen der Relaxation von kernspinpolarisiertem 8Li auf der nasschemisch präparierten Si(111)(1×1):H-Oberfläche mit der Methode der β-NMR werden denen der Charakterisierung der Oberfläche durch eine Reihe von konventionellen Methoden gegenübergestellt.
Die Relaxation des Kernspins (T1-Zeit der NMR) von 8Li auf der Si(111)(1×1):H-Oberfläche gemessen mit β-NMR zeigt ein für Metalle typisches Verhalten (Korringa Relaxation): die Kernspinrelaxationsrate steigt linear mit der Temperatur an und ist magnetfeldunabhängig.
Charakterisiert wurde die Oberfläche mittels Augerelektronenspektroskopie (AES), thermischer Desorptionsspektroskopie (TDS), Messung der Austrittsarbeitsänderung (Δ φ), Infrarottransmissionsspektroskopie (ITS) und Kraftmikroskopie (AFM), zum Teil unter zuhilfenahme von Lithiumadsorption. Insgesammt weisen die Ergebnisse auf eine saubere, atomar glatte und ideal wasserstoffterminierte Oberfläche hin. Eine solche Oberfläche sollte, im Gegensatz zu den Ergebnissen der Relaxationsmessungen, halbleitend und nicht metallisch sein. Eine mögliche Interpretation wird kurz diskutiert. †Gefördert durch das BMBF unter 05 SE8 RMA2.