Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 39: Adsorption an Oberflächen (V)

O 39.11: Vortrag

Freitag, 31. März 2000, 13:45–14:00, H44

Wechselwirkung von Wasserstoff mit einer Ni(210)-Oberfläche — •Pia Katharina Schmidt und K. Christmann — Institut für Chemie, FU Berlin, Takustr.3, 14195 Berlin

Wir haben die Wechselwirkung von Wasserstoff mit einer Nickel(210) - Oberfläche zwischen 40 und 400K mit LEED, ΔΦ−, HREELS- und Isotopenaustausch-Messungen untersucht und finden, ähnlich wie bei einer Pd(210)-Oberfläche, auch bei Ni eine Chemisorption von H₂-Molekülen bei tiefen Temperaturen. Wird die Oberfläche bei T ≥ 100K Wasserstoffgas ausgesetzt, dissoziiert Wasserstoff spontan und bildet - unter Erhöhung der Austrittsarbeit von 260 meV - zwei atomare Bindungszustände, aus denen die Desorption zwischen 110 und 350 K erfolgt. Bei T_ad = 45 K hingegen adsorbiert Wasserstoff molekular unter Erniedrigung der Austrittarbeit (δφ = −230 meV); die Desorption erfolgt zwischen 50 und 90 K. Die molekulare Natur dieser Spezies wird durch H₂/D₂-Isotopenaustausch, aber auch durch die Beobachtung der H-H-Schwingungsbande belegt.