Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 9: Adsorption an Oberflächen (II)

O 9.10: Vortrag

Montag, 27. März 2000, 18:30–18:45, H37

XSW-Untersuchungen der Photonen-stimulierten Desorption an Cl/Si(111)-(1×1) — •J. I. Flege¹, T. Schmidt², J. Falta² und G. Materlik³ — ¹II. Inst. f. Experimentalphysik, Uni Hamburg, Luruper Chaussee 149, D–22761 Hamburg — ²Inst. f. Festkörperphysik, Uni Bremen, Postfach 330440, D–28334 Bremen — ³HASYLAB am DESY, Notkestr. 85, D–22607 Hamburg

Die Photonen-stimulierte Desorption von Cl⁺- und Cl²⁺-Ionen von der Si(111)-Oberfläche wurde mit stehenden Röntgenwellenfeldern (XSW) unter Verwendung von Synchrotronstrahlung untersucht. Dabei dienten die mittels Flugzeitspektroskopie identifizierten Cl-Ionen als inelastisches Signal zur Bestimmung des Ortes der desorptionswirksamen Anregung [1]. In Abhängigkeit von der Photonenenergie wird ein starker Anstieg der Cl⁺- und insbesondere der Cl²⁺-Desorption an der Cl-K-Kante beobachtet. XSW-Messungen oberhalb und unterhalb dieser Absorptionskante lassen auf den Cl-Desorptionsplatz schließen. Unterschiede zu XSW-Ergebnissen, die gleichzeitig mit Cl-1s-Photoelektronen als Sekundärsignal erzielt wurden, werden diskutiert. Ein Modell für die Desorptionsmechanismen wird vorgeschlagen.

[1] J. Falta, A. Hille, T. Schmidt, G. Materlik, Surf. Sci. 436 (1999) L677-L682