Regensburg 2000 – scientific programme

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SYFG: Struktur und Dynamik der Fest-Flüssig-Grenzfläche

SYFG II: HV II

SYFG II.1: Invited Talk

Wednesday, March 29, 2000, 14:40–15:20, H\,38

Nanostrukturierung mit dem Rastertunnelmikroskop — •G.E. Engelmann, J.C. Ziegler und D.M. Kolb — Abteilung Elektrochemie, Universität Ulm, 89069 Ulm

Neben dem Abbilden von Oberflächen kann das Rastertunnelmikroskop auch als sehr feines Werkzeug zur gezielten Veränderung von Oberflächen verwendet werden. Es wird eine Methode vorgestellt, die es ermöglicht, Elektrodenoberflächen im Nanometermasstab schnell und reproduzierbar zu dekorieren. Voraussetzung für dieses Verfahren ist eine kontinuierliche Metallabscheidung auf der Tunnelspitze. Von dort wird während einer kurzzeitigen und sehr kontrollierten Annäherung der Spitze an die Oberfläche ein kleiner Metallcluster übertragen. Mit diesem Verfahren lassen sich beliebige Muster, z.B. Felder von mehreren hundert Clustern, in relativ kurzer Zeit herstellen. Die erzeugten Cluster zeigen eine erstaunlich hohe Stabilität gegen anodische Auflösung. Hierfür werden Beispiele gezeigt und die Beobachtungen diskutiert. Ausserdem wird die Nanostrukturierung verschiedener Metall-Substrat- Kombinationen vorgestellt.