Regensburg 2000 – wissenschaftliches Programm

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SYIS: In-situ-Charakterisierung von Schichtabscheideprozessen

SYIS 1: In-Situ-Charakterisierung: Plasmaanalytik

Montag, 27. März 2000, 14:00–15:30, H 32

	14:00	SYIS 1.1	Hauptvortrag: Die optische Plasmaspektroskopie zur Stabilisierung und Steuerung von reaktiven Sputterprozessen — •V. Kirchhoff
	14:45	SYIS 1.2	Hauptvortrag: In–situ–Charakterisierung der Randschichteigenschaften in Plasmareaktoren mittels E–Feld–Messungen — •U. Czarnetzki, D. Luggenhölscher und H.F. Döbele