Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 10: Theory and Plasma Diagnostic (Poster Session)

P 10.12: Poster

Mittwoch, 4. April 2001, 12:30–15:00, AT2

Spektroskopische Analyse mikrowellen-erzeugter Niederdruckplasmen — •Sandra Quell, Jochen Feichtinger, Joachim Schneider, Andreas Schulz, Matthias Walker und Uwe Schumacher — Institut für Plasmaforschung, Universität Stuttgart, Pfaffenwaldring 31, D-70569 Stuttgart

Die Untersuchungen wurden an einem durch Mikrowellen (2,45 GHz) erzeugten Plasma durchgeführt. Bei der verwendeten Anlage, die großflächige Beschichtungen erlaubt, wurden aus den Gasen NH₃ und SiH₄ Siliziumnitridschichten abgeschieden.

Für ein besseres Verständnis des Schichtwachstums ist es notwendig, die im Plasma gebildeten Moleküle, Atome und Ionen zu identifizieren und ihr Verhalten bei Änderung der Prozessparameter zu untersuchen.

Als erstes wurden dazu Plasmen aus N₂ und NH₃ bzw. aus N₂ und SiH₄ mit einem kompakten Echelle Spektrometer (Mechelle7500) untersucht, um eine Übersicht über die enthaltenen Spezies, die emittierten Linien und somit über die angeregten Energieniveaus zu erhalten.

Das Verhalten der Gasphase wurde bei Variation der Prozessparameter wie Druck, Gasfluß oder eingestrahlter Leistung untersucht.

Um Informationen über die Gastemperatur zu erhalten, wurde die Dopplerverbreiterung der Hα-Linie mit einem hochauflösenden Echelle-Spektrometer gemessen. Durch Simulation von Schwingungs-Rotations Banden von N₂ und N₂⁺ konnten Aussagen über die Rotations- und Schwingungstemperaturen dieser Moleküle getroffen werden.