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AM: Magnetismus

AM 14: Dünne Schichten II

AM 14.3: Vortrag

Donnerstag, 29. März 2001, 15:30–15:45, S 5.2

Untersuchung des Zusammenhangs von Struktur, mechanischer Spannung und Magnetismus in dünnen Co Filmen auf W(100) — •Wulf Wulfhekel, T. Gutjahr-Löser, F. Zavaliche, D. Sander und J. Kirschner — Max-Planck Institut für Mikrostrukturphysik, Weinberg 2, 06120 Halle

Es wird eine Studie zum Zusammenspiel der Kristallstruktur, der Morphologie und der elastischen Spannung in Co/W(100) vorgestellt und der Einfluß dieser Parameter auf die magnetischen Eigenschaften der Co-Filme untersucht. Die Struktur wurde mittels Beugung niederenergetischer Elektronen (LEED) bestimmt und durch Rastertunnelmikroskopie (STM) ergänzt. Bei Bedeckungen unter 2.5 pseudomorphen Atomlagen liegt Co in der bcc Modifikation vor und wechselt in die hcp Modifikation bei höheren Bedeckungen. Der Wechsel der Modifikation führt zu erheblichen Veränderungen in der Filmspannung, die durch eine Biegebalkenmethode in situ gemessen wurden. Bei subatomaren Lagen und hohen Temperaturen wurde mittels LEED und STM eine (2x1) Oberflächenlegierung gefunden. Weiterhin wurde die Bildung von Versetzungen und Stapelfehlern in hcp Co Filmen mittels LEED und STM untersucht und mit den Spannungsmessungen korreliert. Die magnetischen Eigenschaften wurden mittels des magnetooptischen Kerr Effekts (MOKE) untersucht. Die hcp Co Filme zeigen überraschenderweise eine leichte Richtung der Magnetisierung unter 45^∘ zur c-Achse des Co Films, die in Volumen Co üblicherweise die leichte Richtung ist. Dieses wird anhand der lokalen Struktur und Morphologie der Filme erklärt.