Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm
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AM: Magnetismus
AM 9: Poster: Magnetowid. (1-17), Dü. Schichten (18-34), Oberfl
ächenmag. (35,36), Mikr. Methoden (37-45), Mikromag. (46-58), Phasenüberg. (59-77), Spektroskop. (78-91), Nanokr.Mat.(92-96), Anisotrop. (97-101), Schmelzen(102-104),Sonst/postdeadl.(105-109)
AM 9.19: Poster
Dienstag, 27. März 2001, 14:45–19:00, Foyer S 3
Laserdeponierte, hartmagnetische SmCo-Schichten — •Volker Neu, Sebastian Fähler, Bernhard Holzapfel und Ludwig Schultz — IFW Dresden, Postfach 270016, 01171 Dresden
SmCo-Schichten weisen ausgezeichnete hartmagnetische Eigenschaften aus und sind ein vielversprechendes Material für mikrostrukturierte elektromagnetische Sensoren und Aktuatoren (MEMS). Bei der Schichtherstellung mittels Magnetronsputtern ist üblicherweise ein Prozessgasdruck von 0.01 - 0.1 mbar erforderlich. Dies führt zu einem Thermalisieren des Plasmas und beeinflusst dadurch wesentlich Mikrostruktur und Textur der Schicht. Mit gepulster Laserdeposition (PLD) ist die Präparation dagegen in einem deutlich grösseren Druckbereich möglich. Die im UHV auftretenden Plasmaenergien im Bereich von 100 eV führen zu speziellen Wachstumsmoden, wie der Implantation in die obersten Monolagen (subsurface growth). In einer Multitarget-UHV-PLD-Kammer werden SmCo-Schichten ausgehend von Elementtargets auf einem geheizten Substrat präpariert. Der Prozessgasdruck (Ar) wird im Bereich von UHV (1x10−9) bis 0.1 mbar eingestellt und der Einfluss auf Depositionsprozess, Mikrostruktur und magnetische Eigenschaften untersucht. Bei moderatem Prozessdruck (0.01 - 0.1 mbar) hergestellte Schichten werden mit gesputterten Proben verglichen.