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DS: Dünne Schichten

DS 11: Schichtherstellung I

DS 11.1: Hauptvortrag

Dienstag, 27. März 2001, 09:30–10:15, S 13/14

Von einem Patentstreit 1884-94 zu ultradünnen Schichten ausgezeichneter Qualität - eine kurze Geschichte der Schichtherstellung mit gefilterten Bogenplasmen — •Andre Anders — Lawrence Berkeley Laboratory, Berkeley, California

Als Thomas A. Edison seinen Patentantrag „Process of Duplicating Phonograms“ am 28. Januar 1884 beim Patentamt der Vereinigten Staaten einreichte, ahnte er nicht, daß ihm ein zehnjähriger Rechtsstreit bevorstand, den er nur zum Teil gewinnen würde. Denn Vakuumbogenbeschichtung, so stellte sich heraus, ist noch älter. Merkmale wie die Unkenntnis vorhergehender Arbeiten, der nicht endende Streit um kontinuierliche oder gepulste Entladungen und Plasmen, and das Suchen um das beste Prozessplasma haben sich bis heute fortgestetzt. Allerdings sind beachtliche Vorschritte gemacht worden, sowohl was das theoretische Verständnis der Bogenplasmen und des Schichtwachstums anbelagt, als auch im Bereich der ingeneurtechnischen Beherrschung der Schichtherstellung. Bemerkenswert ist die moderne Anwendung des Bogenplasmas in der Halbleitermetallisierung sowie für die Herstellung ultradünner (< 5 nm) Schutzschichten.