Hamburg 2001 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 12: Schichtherstellung II

DS 12.1: Talk

Tuesday, March 27, 2001, 10:15–10:30, S 13/14

Einfluss von Druck, Sauerstofffluss und Targetmaterial auf Textur, Rauhigkeiten und intrisische Spannungen von gesputtertem Zinkoxid — •Oliver Kappertz, Robert Drese, Stefan Ziegler und Matthias Wuttig — I. Physikalisches Institut, RWTH Aachen, 52056 Aachen, Germany

Dünne ZnO Filme auf Glas, die unter verschiedenen Sputterbedingungen abgeschieden worden sind, wurden mittels Röntgenbeugung (XRD) und Rasterkraftmikroskopie (AFM) untersucht. Das Ziel dieser Untersuchung ist es, den Einfluss verschiedener Prozessparameter des reaktiven Sputterns auf die Struktur und Textur der hergestellten Proben zu analysieren. Im Experiment wurden dazu zwei verschiedene Targetmaterialien eingesetzt, ein reines, metallisches Zn Target und ein mit Al dotiertes ZnO Target. Ausserdem wurden der Gesamtdruck und der Sauerstofffluss bei beiden Targets über einen weiten Bereich variiert. Bei den so hergestellten Proben waren in Abhängigkeit von den Prozessparametern starke Unterschiede im Spannungszustand, der Rauhigkeit und der Textur zu beobachten. Diese Unterschiede in den Schichten werden auf die veränderten Prozessparameter zurückgeführt und atomistische Erklärungsansätze vorgestellt.