DS 17: Ionenimplantation III
Donnerstag, 29. März 2001, 11:15–12:15, S 5.1
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11:15 |
DS 17.1 |
Untersuchung ionenstrahlinduzierter Festkörperreaktionen in Si/C Schichtpaketen mittels EXAFS und FTIR — •F. Harbsmeier, A.-M. Flank, F. Roccaforte und W. Bolse
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11:30 |
DS 17.2 |
EFTEM Charakterisierung nanometrischer SiCx Ausscheidungen und deren thermisches Verhalten — •Maik Häberlen, J.K.N. Lindner und B. Stritzker
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11:45 |
DS 17.3 |
Epitaxial regrowth of Na-implanted α-quartz — •S. Dhar, M. Lang, K. P. Lieb, T. Sajavaara und J. Keinonen
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12:00 |
DS 17.4 |
Ion Acoustic Microscopy for Imaging of Buried Structures Based on a Focused Ion Beam System — •Chavkat Akhmadaliev, Lothar Bischoff, Jochen Teichert, Kassym Kazbekov, and Bernd Köhler
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