Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 20: Schichteigenschaften III

DS 20.2: Vortrag

Donnerstag, 29. März 2001, 17:15–17:30, S 5.1

Quantitatives EFTEM an ionenstrahlsynthetisierten Schichten — •W. Attenberger¹, M. Schmid², J.K.N. Lindner¹ und B. Stritzker¹ — ¹Universität Augsburg, Institut für Physik, 86135 Augsburg — ²Forschungszentrum Jülich GmbH

EFTEM (Energiegefilterte Transmissionselektronenmikroskopie) erlaubt die zweidimensionale Analyse der Elementverteilung einer Probe mit einer Ortsauflösung von bis zu einem Nanometer. Daher findet EFTEM eine zunehmende Verbreitung in den Materialwissenschaften.

Eine quantitative Auswertung von Elementverteilungsbildern ist jedoch im Allgemeinen sehr schwierig, da die Probendicke nicht nur unbekannt, sondern auch noch variabel innerhalb einer Aufnahme ist. Darüber hinaus sind die Streuquerschnitte in den benutzten Energiefenstern unsicher. Beugungseffekte erschweren die direkte Interpretation der gewonnenen Daten vor allem bei teilweise kristallinen Proben zusätzlich.

All diese Probleme kann man umgehen, wenn man einen Standard benutzt und auf relative Elementverteilungen (das Verhältnis von zwei Elementen zueinander) ausweicht.

In dieser Arbeit wird ein mittels Ionenstrahlsynthese hergestelltes SiO2/Si/SiOX/SiC Viellagensystem untersucht. Dabei wird gezeigt, wie die implantierte Dosis als Standard für die Quantifizierung der Messungen genutzt werden kann. Die Ergebnisse werden mit den Resultaten von RBS und ERD Analysen verglichen. Der Einfluß der Sputterpräparation zur Herstellung von XTEM Proben wird diskutiert.