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16:30 |
DS 31.1 |
Einfluss von Druck, Sauerstofffluss und Targetmaterial auf Textur und intrisische Spannungen von gesputtertem Zinkoxid — •Robert Drese, Oliver Kappertz, Stefan Ziegler und Matthias Wuttig
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DS 31.2 |
Untersuchung der Strukturbildung dünner organischer Schichten bei der Abscheidung in HMDSO-haltigen Plasmen einer HF-Entladung. — •Onno Gabriel, Konstantin Li und Jürgen Meichsner
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DS 31.3 |
Wachstum kubischer Bornitridfilme auf ex-situ behandelten kubischen Bornitrid-Substraten - eine HRTEM Studie — •H.-G. Boyen, N. Deyneka, P. Ziemann und F. Banhart
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DS 31.4 |
Grenzflächenamorphisierung in laserablatierten Eisen-Bor-Vielfachschichten — •R. Steiner, M. Krieger, A. Plettl, H.-G. Boyen und P. Ziemann
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DS 31.5 |
Hohlraumbildung im Si/SiC/Si Schichtsystem nach Wasserstoffimplantation — •W. Attenberger, J.K.N. Lindner und B. Stritzker
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DS 31.6 |
Tiefenselektive Phasenanalyse der α-FeSi2-Bildung nach Ar+-Beschuß von β-FeSi2 mittels DCEMS, XPS und AES — •M. Walterfang, W. Keune, R. Reiche, S. Oswald, M. Dobler und H. Reuther
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DS 31.7 |
Kalorimetrische Messungen an wachsenden dünnen Schichten bei lasergestützter Abscheidung — •Michael Mans, Sven Linzen, Frank Schmidt, Frank Schmidl und Paul Seidel
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DS 31.8 |
Elektrochemische Abscheidung von Kupferschichten und -leiterbahnen - Einfluß der Herstellungsbedingungen auf die Mikrostruktur — •H. Schlörb, H. Wendrock, M. Hecker, T. Kötter und L. Schultz
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DS 31.9 |
Prozessoptimierung zur Herstellung Kryoelektronischer Bauelemente — •Margret Peters, Cornelia Assmann und Thomas Schurig
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DS 31.10 |
Epitaxy of silicon with high carbon concentration by MBE — •P. LAVEANT, G. GERTH, P. WERNER, S. SENZ, and U. GÖSELE
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DS 31.11 |
Grenzflächendurchmischung in Keramiken durch Hochenergie-Ionenbestrahlung — •B. Schattat, S. Kraft, W. Bolse, S. Klaumünzer, F. Harbsmeier, S. Dhar und A. Jasenek
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DS 31.12 |
Track formation in KTP by MeV implantation of light ions — •F. Schrempel, W. Wesch, Th. Opfermann, and Th. Höche
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DS 31.13 |
In-Situ-Messung mechanischer Spannungen während der Ionenimplantation in GaN-Schichten — •S. Sienz, J. W. Gerlach, A. Wenzel, B. Rauschenbach, A. Lell, S. Bader, G. Brüderl, A. Weimar und V. Härle
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DS 31.14 |
IN SITU INVESTIGATION OF AlAs/GaAs INTERFACES DURING ION IMPLANTATION AT 15 K — •E. Wendler, W. Wesch, and B. Breeger
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DS 31.15 |
ANOMALOUS DAMAGING BEHAVIOUR OF AlAs DURING ION IMPLANTATION AT 15 K — •E. Wendler, W. Wesch, and B. Breeger
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DS 31.16 |
Effects of the energy on damage production in MeV ion-implanted GaAs — •W. Wesch, E. Wendler, and N. Dharmarasu
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DS 31.17 |
Bildung von Au-Ausscheidungen in implantierten TiO2-Einkristallen — •R. Fromknecht und G. Linker
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DS 31.18 |
EXAMPLES OF COMBINED ION BEAM ANALYSIS — •E. Wendler, C. Jeynes, and N. P. Barradas
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DS 31.19 |
Hochauflösende Röntgenbeugung an Ge-implantierten 4H-SiC — •Bettina Wunderlich, Günter Heß, Frank Wunderlich, Jürgen Kräußlich, Konrad Goetz, Christian Schubert und Werner Wesch
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DS 31.20 |
Tailoring the Size and Size Distribution of Nanoclusters through Ion Irradiation — •Torsten Müller, Karl-Heinz Heinig, Bernd Schmidt, and Arndt Mücklich
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DS 31.21 |
Kinetische Untersuchungen zur Plasmaoxidation von Al-Schichten — •Antje Quade und Harm Wulff
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DS 31.22 |
Auswirkungen des N2+-Bombardements auf In-haltige AIII-BV Halbleiteroberflächen — •Jan-David Hecht, Frank Frost, Thomas Chassé, Dietmar Hirsch, Horst Neumann, Axel Schindler und Bernd Rauschenbach
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DS 31.23 |
Periodische Ripple-Strukturen auf Fused Silica Oberflächen durch Ionenstrahlerosion: Ein Vergleich zwischen Theorie und Experiment — •Frank Frost, Dieter Flamm, Dietmar Hirsch und Bernd Rauschenbach
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DS 31.24 |
Zum Einsatz von Thermosonden zur Charakterisierung von Plasma-Wand-Wechselwirkungsprozessen — •Holger Kersten, Ruben Wiese und Rainer Hippler
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DS 31.25 |
in-situ-Gasanalyse während der Si-Dünnschichtabscheidung: Molekülstrahltechnik, Laserionisierung und Massenspektrometrie — •Ewa Witkowicz, Fritz Falk und Herbert Stafast
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DS 31.26 |
Structural investigation of the Mo6Se8 Chevrel phases grown on a MoS2 substrate by van der Waals epitaxy — •Ralf Severin, Thorsten Böker, Christoph Janowitz, and Recardo Manzke
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DS 31.27 |
Epitaktisches Wachstum von Niob auf facettierten Saphirflächen — •Jens Oster, Michael Huth, Ken Ritley, Helmut Dosch und Herrmann Adrian
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DS 31.28 |
Facettierung von epitaktischen hcp Metallschichten auf bcc(211) Substraten — •Katharina Theis-Bröhl, Bärbel Krause und Ken Ritley
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DS 31.29 |
Ionenstrahlgestütztes, epitaktisches Wachstum dünner Galliumnitridschichten auf r-Ebenen-Saphir: Einfluß der Ionenbestrahlung — •J. W. Gerlach, S. Sienz, W. Attenberger und B. Rauschenbach
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DS 31.30 |
Structure and morphology of thin Ta and TaNx films — •Tien Hung Luu, Jens Baumann, Gisela Baumann, Steffen Schulze, and Michael Hietschold
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DS 31.31 |
Structural transformations of Ge4Sb1Te5, Ge2Sb2Te5 and AgInSbTe films studied by electrical resistivity measurements and X-Ray diffraction — •Walter K. Njoroge, Ine’s Friedrich, and Matthias Wuttig
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DS 31.32 |
Structural and optical properties of thin lead oxide films produced by reactive DC magnetron sputtering. — •S. Venkataraj, H. Weis, O. Kappertz, W. Njoroge, R. Jayavel, and M. Wuttig
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DS 31.33 |
Einfluß der Biasspannung auf die Mikrostruktur plasmagestützt abgeschiedener metallischer In/Sn-Filme — •Marion Quaas, Harm Wulff, Rainer Hippler und Hartmut Steffen
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DS 31.34 |
Untersuchung atomarer Diffusion in Chalkopyrit-basierten Solarzellenstrukturen mittels ERDA — •Swen Lindner, Wolfgang Bohne, Arnulf Jäger-Waldau, Marta Lux-Steiner, Jörg Röhrich und Gero Vogl
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DS 31.35 |
Hochauflösende Ionenstreuung mit schweren Ionen — •Christoph Klein, Rainer Grötzschel und Michael Mäder
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DS 31.36 |
Mechanische Eigenschaften von B-C-N-Schichten — •Volker Linss, Ilja Hermann und Frank Richter
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DS 31.37 |
Theoretical Studies of the Electronic Structure of the Germanium Based 2D Sheet-polymer: Polygermyne — •Zoltán Hajnal, Günther Vogg, Lex Meyer, Bernadett Szűcs, Martin S. Brandt, and Thomas Frauenheim
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DS 31.38 |
Magnetotransport properties of thin films and multilayers of the Heusler alloys Cu2MnAl, Co2MnSb and Co2MnSi — •Andre Bergmann, Uwe Geiersbach, and Kurt Westerholt
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DS 31.39 |
Elektronen-induzierte Isomerisierung in Multilagenfilmen von Cyclopropan — •Petra Swiderek und Helmut Winterling
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DS 31.40 |
Optische Charakterisierung ultradünner Kupferphthalocyaninschichten auf Silber unter Nut-zung von Oberflächenplasmon-Polaritonen — •Raiko Jähnig, Olaf Stenzel und Steffen Wilbrandt
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DS 31.41 |
Surfactant-gesteuerte Präparation von MnSi1.7 auf Si(001) — •S. Teichert, H. Hortenbach und H.-J. Hinneberg
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DS 31.42 |
TEM Investigations of HMS Layers Grown on Si(001) by Different MBE Techniques — •Anna Mogilatenko, M. Falke, S. Teichert, H. Hortenbach, and H.-J. Hinneberg
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DS 31.43 |
Optical properties of polycrystalline MnSi1.7 thin films — •Wolfgang Henrion, Matthias Rebien, Heike Angermann, and Steffen Teichert
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DS 31.44 |
Evaporated and sputtered Beta-FeSi2+x thin films: Thermoelectric properties and structure — •H. Grießmann, J. Schumann, A. Heinrich, D. Elefant, and J. Thomas
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DS 31.45 |
Strukturelle Eigenschaften von epitaktischen Rheniumsilizid-Filmen — •C.A. Kleint, A. Heinrich, D. Hofmann, R. Reiche und J. Schumann
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DS 31.46 |
Wachstumsuntersuchungen von Cu auf MgO(001) und H/Si(001) — •T. Mewes, M. Rickart, A. Mougin, S.O. Demokritov, J. Faßbender, B. Hillebrands und M. Scheib
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DS 31.47 |
GASOCHROMIC TUNGSTEN OXIDE FILMS (WO3): A CORRELATION BETWEEN FILM PROPERTIES AND COLORATION KINETICS — •Chr. Salinga, H. Weis, and M. Wuttig
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DS 31.48 |
Ellipsometrie und optische Konstanten von SiOx und SiNx fuer Bragg-Reflektoren — •Bernd Rheinländer, Dusan Pudis, Ruediger Schmidt, Susanne Hardt, Volker Gottschalch und Jurana Kvietkova
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DS 31.49 |
Optische Charakterisierung von LB-Filmen auf Au and Si mit IR-Ellipsometrie — •K. Hinrichs, E.H. Korte, A. Röseler und R. Dietel
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DS 31.50 |
Struktur und chemische Zusammensetzung von PE-MOCVD Einzel- und Multischichten — •Andreas Aschentrup, Frank Hamelmann, Michael Sundermann, Kersten Dettmar, Ulf Kleineberg, Peter Jutzi und Ulrich Heinzmann
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DS 31.51 |
Charakterisierung von Gradienten-Multischichtsystemen mittels Röntgenstreuung — •F. Weber, J. Stettner, M. Tolan, W. Press, C. Dieker, W. Jäger und C. Michaelsen
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DS 31.52 |
Sputtered Multilayer X-ray Mirrors for the Water Window — •Alexei Nefedov, Hartmut Zabel, and Franz Schaefers
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DS 31.53 |
Polyelektrolyt-Multilagen: Nanoschichten durch Selbstorganisation — •Heiko Elsinger, Johannes Boneberg und Paul Leiderer
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DS 31.54 |
Transversaler Seebeck-Effekt in verkippten Multilagenstrukturen — •K. Fischer, Th. Zahner und H. Lengfellner
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DS 31.55 |
Wachstum von Zwischenschichten auf Nickel zur Deposition von YBa2CU3O7−δ - Schichten — •Uwe Wozniak, Michael Merz und Jochen Geerk
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DS 31.56 |
Herstellung, mikrostrukturelle Charakterisierung und Transporteigenschaften von Metall/Metall- und Metall/Oxid-Vielfachschichtsystemen vor und nach thermischer Behandlung — •Sebastian Dreyer, Carsten Herweg, P. Troche, J. Hoffmann, C. Borchers und H. C. Freyhardt
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DS 31.57 |
Herstellung und Charakterisierung oxidischer Übergitter-Strukturen — •Dirk Fuchs, Markus Adam und Rudolf Schneider
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DS 31.58 |
Übergangsschichten in den mittels der PLD im Vakuum hergestellten metallischen Doppelschichten — •Alexander Tselev, Andre Gorbunov, Wolfgang Pompe und Karin Brand
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DS 31.59 |
Layer adhesion and surface modifications analyzed by means of modulated laser beam excitation — •I. Delgadillo-Holtfort, D. Dietzel, J. Gibkes, U. Hinzpeter, Th. Eulenstein, J. Pelzl, and B. K. Bein
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DS 31.60 |
Metal-to-Ligand Charge Transfer in Organometallic Coumpounds — •D. Pop, W. Freyer, R. Weber, B. Winter, and I.V. Hertel
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