Hamburg 2001 – scientific programme

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DS: Dünne Schichten

DS 31: Postersitzung

DS 31.1: Poster

Tuesday, March 27, 2001, 16:30–17:30, Foyer Saal 4

Einfluss von Druck, Sauerstofffluss und Targetmaterial auf Textur und intrisische Spannungen von gesputtertem Zinkoxid — •Robert Drese, Oliver Kappertz, Stefan Ziegler und Matthias Wuttig — I. Physikalisches Institut, RWTH Aachen, 52056 Aachen, Germany

Dünne ZnO Filme auf Glas, die unter verschiedenen Sputterbedingungen abgeschieden worden sind, wurden mittels Röntgenbeugung (XRD) untersucht. Das Ziel dieser Untersuchung ist es, den Einfluss verschiedener Prozessparameter des reaktiven Sputterns auf die Struktur, die Textur und den Spannungszustand der hergestellten Proben zu analysieren. Im Experiment wurden dazu zwei verschiedene Targetmaterialien eingesetzt, ein reines, metallisches Zn Target und ein mit Al dotiertes ZnO Target. Ausserdem wurden der Gesamtdruck und der Sauerstofffluss bei beiden Targets über einen weiten Bereich variiert. Die so hergestellten Proben zeigten in Abhängigkeit von den Prozessparametern starke Unterschiede im Spannungszustand und der Textur. Die Messungen und Messmethoden dieser Untersuchungen werden ebenso vorgestellt wie atomistische Erklärungsansätze, mittels derer die Unterschiede in den Schichten auf die veränderten Prozessparameter zurückgeführt werden.