Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 31: Postersitzung

DS 31.9: Poster

Dienstag, 27. März 2001, 16:30–17:30, Foyer Saal 4

Prozessoptimierung zur Herstellung Kryoelektronischer Bauelemente — •Margret Peters, Cornelia Assmann und Thomas Schurig — Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestrasse 10-12, 10587 Berlin

Prozessoptimierung zur Herstellung Kryoelektronischer Bauelemente M. Peters, C. Assmann und Th. Schurig Physikalisch-Technische Bundesanstalt, Abbestr. 10-12, 10587 Berlin

Im Labor für Kryosensorik der PTB werden höchstempfindliche Magnetfeldsensoren (Superconducting Quantum Interference Devices) in Mehrlagen-Dünnschichttechnologie (Nb/Al2O3/Nb-Trilayer, Nb- und Pd- Schichten) für verschiedene messtechnische Anwendungen (Medizintechnik, zerstörungsfreie Prüfung u.a.) entwickelt und hergestellt. Die Fabrikation erfolgt auf 3-Zoll-Si-Wafern mittels Fotolithografie und Sputtern. Dabei werden u.a. eine manuell betriebene und eine computergesteuerte Sputteranlage verwendet (Hersteller Alcatel und FHR). Sämtliche Prozessschritte zum Aufbringen der dünnen Schichten, wie z.B. Fotolackprozesse, die Substratreinigung und die Sputterprozesse zur Abscheidung werden mittels statistischer Versuchsplanung optimiert. Dabei wird die kommerzielle Software „Cornerstone“ (Domain Solutions) verwendet. Die Prozessoptimierung wird an Beispielen mit Parametern und Messgrössen vorgestellt.