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DS: Dünne Schichten
DS 9: Laserverfahren I
Dienstag, 27. März 2001, 09:30–11:00, S 5.1
09:30 | DS 9.1 | In situ Spektroskopie der mit einem VUV-Laser induzierten Oxidation von wasserstoffterminierten Siliziumoberflächen — •Jochen Lambers und Peter Hess | |
09:45 | DS 9.2 | Grenzflächen in laserdeponierten Fe/Ag-Schichtpaketen untersucht mit AES und CEMS — •M. Weisheit, P. Schaaf und H.-U. Krebs | |
10:00 | DS 9.3 | Laser-Kristallisierung dünner Siliziumfilme mit holographisch generierten Intensitätsprofilen — •Christopher Eisele, Tobias Bach, Christoph E. Nebel und Martin Stutzmann | |
10:15 | DS 9.4 | Laserpulsabscheidung von kubischen Bornitridschichten bei hohen Energiefluenzen — •Günter Reiße und Steffen Weißmantel | |
10:30 | DS 9.5 | Gepulste Laserdeposition von Polymerschichten — •E. Süske, P. Schaaf, H. Kijewski und H.-U. Krebs | |
10:45 | DS 9.6 | Excimer Laser Ablation von Gold-beladenen inversen Polystyrol-Block-Poly (2-Vinylpyridin) Mizellen. — •G. Lengl, A. Plettl, P. Ziemann, J. Spatz und M. Möller | |