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M: Metallphysik
M 33: Postersitzung
M 33.40: Poster
Thursday, March 29, 2001, 15:15–19:00, Foyer S4, CCH
Diffusion von Thorium in Wolfram — •B. Eberhard1,2, J. Almanstötter1, R. Sankarasubramanian3 und F. Haider2 — 1OSRAM GmbH, Mittelstetter Weg 2, 86830 Schwabmünchen — 2Universität Augsburg, Universitätsstr. 1, 86135 Augsburg — 3Indian Institute of Science, Bangalore, India
Thoriumdotiertes Wolfram findet breite Verwendung als Basismaterial
für Elektroden von Hochdruckentladungslampen.
Die bei den auftretenden Betriebstemperaturen hohe Abdampfrate von
Th wird gemeinhin durch Nachdiffusion über das
thorierte Basismaterial ausgeglichen, so dass weitgehend konstante
Betriebsbedingungen hierdurch gewährleistet werden können.
Dieser Diffusionsprozeß ist nachwievor weitgehend unverstanden.
Diesem Umstand soll durch die Anwendung von Molekulardynamiksimulationen
entgegengewirkt werden.
Zu diesem Zweck wurden aus ab initio-Rechnungen
interatomare Wechselwirkungspotentiale zwischen W und Th
vom EAM-Typ konstruiert.
Unter Verwendung der Overlapping Distribution-Methode
werden freie Löslichkeitsenthalpien von Th im W-Bulk und
freie Segregationsenthalpien von Th auf einer
Σ5(310)[001]-Kippkorngrenze
im Rahmen eines NPT-Ensembles für verschieden Temperaturen
ermittelt. Weiterhin wird die Korngrenzenmobilität reiner W-Korngrenzen
in Abhängigkeit von der Temperatur untersucht und mit
experimentellen Daten verglichen.