Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 12: Grenzfl
äche fest-flüssig

O 12.8: Vortrag

Montag, 26. März 2001, 18:00–18:15, K

Elektrochemische Charakterisierung und elektronenstrahlinduzierte Strukturierung von selbstaggregierenden Monolagen (SAM) aus aromatischen Thiolen. — •Thomas Felgenhauer¹, Hai-Tao Rong¹, Chun Yan¹, Wolfgang Geyer¹, Armin Goelzhaeuser¹ und Manfred Buck^1,2 — ¹Lehrstuhl für Angewandte Physikalische Chemie, INF 253, Universität Heidelberg, 69120 Heidelberg — ²University of St Andrews, School of Chemistry, North Haugh, St Andrews KY16 9ST, UK

Die Eigenschaften von Elektrodenoberflaechen koennen durch organische Monolagen gezielt modifiziert werden. Untersucht wird eine homologe Serie von Thiolmonoschichten aus 4,4‘-substituierten Biphenylen (CH₃-C₆H₄-C₆H₄-(CH₂)_nSH, BPn, n=0-6,12) adsorbiert auf polykristallinen Goldfilmen. Im Vergleich zu blockierenden Schichten aus Alkanthiolen zeigen diese Filme eine um Grössenordnungen erhoehte Ladungspermeabilitaet. Wir berichten ueber unsere Untersuchungen zum kapazitiven Verhalten, zum Einfluss auf ein Redox-System, sowie zur Korrosionsbeständigkeit und dem daraus folgenden Ladungstransfermechanismus, der auf einen molekularen Tunnelmechanismus hindeutet. Weiterhin wird ueber die elektrochemische Deponierung von Kupfer auf elektronenstrahlinduzierten Strukturen von Alkanthiol- und BPn Monolagen berichtet. Während Alkanthiole Positivresists darstellen und daher die Abscheidung auf den bestrahlten Stellen stattfindet, verhalten sich die SAMs aus BPn als Negativresists, was dazu führt, dass Kupfer ausschliesslich in den nicht bestrahlten, leitfähigen Regionen abgeschieden wird.