Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 22: Epitaxie und Wachstum (I)

O 22.9: Vortrag

Dienstag, 27. März 2001, 18:15–18:30, C

Alkalihalogenide auf vicinalen Metallsubstraten: Lagenwachstum kontra Adsorbat-induzierte Oberflächenfacettierung — •A. Riemann, S. Fölsch, J. Repp, G. Meyer und K.H. Rieder — Institut für Experimentalphysik, FU Berlin, Arnimallee 14, 14195 Berlin

Das Wachstum von NaCl-Filmen auf vicinalen Cu-Oberflächen wurde mit Hilfe hochauflösender Elektronenbeugung (SPALEED) und STM untersucht. Die verwendeten Substrate sind (i) Cu(221), welches aus (111)–Terassen und intrinsischen (111)–Stufen (Abstand 7.65 Å) besteht, sowie (ii) Cu(532), welches eine gekinkte Cu(211)–Oberfläche mit (111)–Terassen und intrinsichen (111)–Stufen (Abstand 6.25 Å) ist. Auf Cu(221) wächst NaCl epitaktisch auf dem unfacettierten Substrat und bildet (100)– orientierte Filme mit einer (1×3)–Überstruktur aus. Dabei ist die polare [110]– Richtung in der Filmebene parallel zu den intrinsischen Cu-Stufen. Andererseits führt die Deposition von weniger als einer Monolage NaCl auf Cu(532) zu einer 2-dimensionalen Facettierung der Oberfläche. Die neue Struktur besteht aus Nanopyramiden mit (111)–, (311)– und (531)– orientierten Facetten. NaCl wächst selektiv in der energetisch bevorzugten (100)–Orientierung als Monolage auf den (311)– und (531)–Facetten, wogegen die (111)–Facette unbedeckt bleibt. Das beobachtete NaCl-Wachstumsverhalten auf Cu(221) und Cu(532) bestätigt, daß die jeweiligen Filmorientierungen durch Coulombwechselwirkungen zwischen den ionischen Ladungen des Films und den elektrostatischen Dipolen an den Stufen und Kinken des vicinalen Metallsubstrates hervorgerufen werden [1].

[1] J. Repp et al., Phys. Rev. Lett. 86 (2001) (in print)