Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 23: Oxide und Isolatoren (I)
O 23.1: Vortrag
Dienstag, 27. März 2001, 16:15–16:30, M
Strukturuntersuchung von dünnen Vanadiumoxidfilmen auf Cu3Au(100) — •Dirk Ahlbehrendt, Ralph-Peter Blum und Horst Niehus — Humboldt-Universität zu Berlin, Institut für Physik, ASP, Invalidenstr. 110, 10115 Berlin
Verschiedene Vanadiumoxide wurden in dünnen epitaktischen Filmen auf Cu3Au(100) aufgewachsen und mittels NICISS (180∘ Ionenrückstreuung), SPA (Spot Profile Analysis)–LEED, STM/STS und AES untersucht.
Nach der Implantation von Sauerstoff in das Cu3Au-Substrat können aus diesem Reservoir gezielt Vanadiumoxidfilme mit unterschiedlichem Sauerstoffgehalt erzeugt werden: bei geringer Oxidation des aufgedampften Vanadium-Filmes eine δ–VO Oxidstruktur, bei vollständiger Oxidation eine VO2–ähnliche. Im Bereich dazwischen bildet sich eine hexagonale Oxidstruktur aus, die als V2O3 identifiziert werden konnte.
Im Vergleich zu Cr2O3, das demselben Strukturtyp angehört, haben aber NICISS– und SPA–LEED– Messungen ungewöhnliche Eigenschaften sowohl im Bezug auf die mögliche Ausbildung einer Vanadium–Doppellage an der Oberfläche als auch eine merkliche Auswärtsrelaxation der oberen Vanadium- bzw. Sauerstofflagen gezeigt.
Die Messungen an V2O3 werden an Hand von Strukturmodellen und Ionenstreusimulationen diskutiert und mit den entsprechenden Ergebnissen der Untersuchungen von Cr2O3 verglichen.