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O: Oberflächenphysik
O 23: Oxide und Isolatoren (I)
O 23.6: Talk
Tuesday, March 27, 2001, 17:30–17:45, M
Die Oxidation von Ni3Al(100) bei 1150 K mit O2 im Druckbereich von 10−6 -10−8 mbar — •Ioan Costina und René Franchy — Institut für Grenzflächenforschung und Vakuumphysik des Forschungszentrums Jülich, D-52425 Jülich, Germany
Die Oxidation von Ni3Al(100) bei einer Temperatur von 1150 K im Druckbereich von 10−6−10−8 mbar wurde mittels Auger Elektronen Spektroskopie (AES), Beugung von langsamen Elektronen (LEED), Elektronenenergieverlust Spektroskopie (EELS) und Rastertunnelmikroskopie (RTM) untersucht. Adsorption von Sauerstoff bei 300K führt zur Bildung einer amorphen Al2O3-Schicht an der Oberfläche. Geordnete Al-Oxide wachsen auf Ni3Al(100) bei höheren Oxidationstemperaturen. Dabei ist die Schichtdicke und die Modifikation der Al-Oxide vom Sauerstoffpartialdruck abhängig: Bei p<10−7 mbar und einer Oxidationstemperaturen von 1150 K erhält man eine Sättigung der Oberfläche bei etwa 1000 L O2, während bei p>10−7 mbar bis 3000 L O2 keine Sättigung beobachtet wird. Die im Druckbereich p <10−7 mbar hergestellten Al-Oxidschichten haben eine Dicke von ca. 5-10 Å und entsprechen der kubischen γ′-Al2O3 Modifikation. Dabei zeigt das EEL Spektrum die für Al2O3 typischen Fuchs-Kliewer-Phononen bei 415, 640 und 885 cm−1. Die Al-Oxide, die bei größeren Sauerstoffpartialdrücken hergestellt werden, entsprechen ebenfalls einer kubischen Modifikation der Al-Oxide und haben eine erhöhte Sauerstoffkonzentration, bei einer Schichtdicke von mehr als 20 Å.