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O: Oberflächenphysik

O 25: Postersitzung (Grenzfl
äche fest-flüssig, Methodisches, Nanostrukturen, Organische Dünnschichten, Rastersondentechniken, reine Oberfl
ächen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Sonstiges)

O 25.10: Poster

Mittwoch, 28. März 2001, 15:00–18:00, Foyer zu B

Fernfeldmikroskopische Messung der Topographie von Grenzflächen mit 2,5 nm Höhenauflösung — •Flörsheimer Mathias, Arne Rosenfeld und Harald Fuchs — Physikalisches Institut, Universität Münster, Wilhelm-Klemm-Str. 10, 48149 Münster

Die Topographie von Oberflächen und vergrabenen Grenzflächen wird durch konfokale linear und nichtlinear optische Laser-Rastermikroskopie mit bis zu 2,5 nm Höhenauflösung gemessen. Als Signal wird das an den Grenzflächen reflektierte bzw. das dort erzeugte harmonische Licht genutzt. Die Signalintensität ist eine sehr steile Funktion des Abstandes zwischen Grenzfläche und Laserfokus. Daher ermöglicht die Intensitäts-Messung die hohe axiale Präzision. Zeitaufwendige Signalrückkopplungen oder lock-in Detektion sind unnötig. Räumliche Variationen der Intensitäten auf Grund unterschiedlicher Materialzusammensetzung (z.B. Leiterbahnen auf Halbleiterchips) koennen rechnerisch korrigiert werden, so daß man die reine Topographie abbilden kann. Das nichtlineare Verfahren zeigt Details (z.B. ferroelektrische Domänengrenzen in integriert optischen Frequenzkonvertern), die man linear optisch nicht erkennt.