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O: Oberflächenphysik
O 25: Postersitzung (Grenzfl
äche fest-flüssig, Methodisches, Nanostrukturen, Organische Dünnschichten, Rastersondentechniken, reine Oberfl
ächen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Sonstiges)
O 25.13: Poster
Mittwoch, 28. März 2001, 15:00–18:00, Foyer zu B
Nanostrukturierung mit Hilfe von optischen Nahfeldeffekten — •Oliver Dubbers1, Hans-Joachim Münzer1, Mario Mosbacher1,2, Johannes Boneberg1, Paul Leiderer1 und Bernd-Uwe Runge1 — 1LS Leiderer, Fach M676, Universität Konstanz, D-78457 Konstanz — 2Institut für angewandte Physik, Johannes-Kepler-Universität, Altenbergstrasse 69, A-4040 Linz
In vielen Bereichen der Industrie werden heutzutage Verfahren benötigt, um Strukturen im Nanometermaßstab herzustellen. Mit der herkömmlichen Technik, der optischen Lithographie mit Hilfe von Masken, können allerdings nur Strukturen bis hinunter zu etwa der halben Lichtwellenlänge erzeugt werden. Um diese Beschränkung zu umgehen, können evaneszente Lichtfelder benutzt werden, wie sie beispielsweise an einer SNOM-Spitze auftreten. In unserem Fall werden diese Felder unter dielektrischen Kugeln (z.B. Polystyrol-Kolloiden) dazu benutzt, verschiedene Oberflächen zu modifizieren. Dazu wird eine Oberfläche, auf der sich Kolloidkügelchen befinden, mit einem ultrakurzen Laserpuls bestrahlt, wodurch unter den Kugeln Löcher entstehen. Die Kolloide können je nach Beschichtungsverfahren ungeordnet aber auch in einem geordneten Gitter aufgebracht werden, was dann in einer entsprechenden Verteilung der Löcher resultiert. Der Vorteil dieser Strukturierungsmethode liegt in der einfachen Herstellung der benötigten Masken sowie in der parallelen Erzeugung von vielen Millionen Löchern mit einem Laserschuß. Denkbare Anwendungen derart strukturierter Oberflächen sind Antireflexschichten, superhydrophobe Oberflächen oder auch photonische Kristalle.