Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

O: Oberflächenphysik

O 25: Postersitzung (Grenzfl
äche fest-flüssig, Methodisches, Nanostrukturen, Organische Dünnschichten, Rastersondentechniken, reine Oberfl
ächen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Sonstiges)

O 25.15: Poster

Mittwoch, 28. März 2001, 15:00–18:00, Foyer zu B

Konstruktive Nanolithographie: Ein universelles Verfahren zur gezielten Herstellung von Nanostrukturen — •Stephanie Hoeppener¹, Rivka Maoz², Lifeng Chi¹, Harald Fuchs¹ und Jacob Sagiv² — ¹Physikalisches Institut, Grenzflächenphysik, WWU Münster, Germany — ²Department of Materials and Interfaces, Weizmann Institute of Science, 76100 Rehovot, Israel

Nach der Entwicklung neuartiger Materialien im Rahmen der Nanotechnologie kommt der Frage immer grössere Bedeutung zu, wie diese Komponenten möglichst effizient miteinander verknüpft werden können. Hier bietet die Konstruktive Nanolithographie eine Fülle von Möglichkeiten, die am Beispiel einer gezielt hergestellten metallischen Struktur erläutert werden sollen.
Dabei spielt neben der Herstellung einer chemisch aktiven Struktur, die mit Hilfe einer leitfähigen Rasterkraftmikroskopiespitze durch das Anlegen einer Spannung hergestellt werden kann, eine wichtige Rolle. Durch das Anlegen dieser Spannung wird in der Nähe der Rastersonde im vorgestellten Fall die oberflächenterminierte Methylgruppe einer OTS-Monoschicht (CH₃(CH₂)₁₇SiCl₃) lokal oxidiert, wodurch eine neue Oberflächenfunktionalität hervorgerufen wird. Die so hergestellten funktionellen Gruppen werden durch die Anwendung chemischer Reaktionen in geeigneter Weise modifiziert, um auf diese Weise metallische Strukturen herzustellen.