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O: Oberflächenphysik

O 25: Postersitzung (Grenzfl
äche fest-flüssig, Methodisches, Nanostrukturen, Organische Dünnschichten, Rastersondentechniken, reine Oberfl
ächen, Teilchen und Cluster, Zeitaufgelöste Spektroskopie, Sonstiges)

O 25.30: Poster

Mittwoch, 28. März 2001, 15:00–18:00, Foyer zu B

Ein Rastertunnelmikroskop für real-katalytische Bedingungen — •Mario Rößler, Joost Wintterlin und G. Ertl — Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft, Faradayweg 4-6, D-14195 Berlin

Eine wesentliche Einschränkung bei der Untersuchung katalytischer Reaktionen ist, daß die meisten Methoden der Oberflächenphysik nur unter UHV-Bedingungen eingesetzt werden können. Dadurch stellt sich die Frage nach der Übertragbarkeit der so gewonnenen Erkenntnisse auf die bei hohen Drücken stattfindende Realkatalyse.

Die Raster-Tunnel-Mikroskopie erscheint zur Überwindung dieses als "pressure gap" bezeichneten Problems geeignet, da sie zu den wenigen Methoden gehört, die auch bei hohen Drücken funktionieren. Es wird der Aufbau eines Experiments vorgestellt, das es ermöglicht, Oberflächenreaktionen in einem Bereich von UHV bis Atmosphärendruck mit Hilfe der Raster-Tunnel-Mikroskopie zu untersuchen. Dabei ist eine Druckzelle, in der sich das STM befindet, mit einer UHV-Präparationskammer zur Reinigung und Charakterisierung der Proben gekoppelt. So bleiben die Reinheits-Bedingungen des Ultrahochvakuums gewahrt, während der Druck bei der Messung variiert werden kann.