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O: Oberflächenphysik

O 33: Methodisches (Experiment und Theorie)

O 33.6: Vortrag

Donnerstag, 29. März 2001, 16:45–17:00, M

Mikro-XPS mittels PEEM unter Verwendung einer monochromatisierten Laborröntgenquelle — •Ch. Ziethen¹, M. Merkel², M. Escher², Th. Kammler², D. Funnemann³, B. Gottschlich³ und G. Schönhense¹ — ¹Johannes Gutenberg Universität, Institut für Physik, D-55099 Mainz — ²FOCUS GmbH, D-65510 Hünstetten-Görsroth — ³OMICRON Vakuumphysik GmbH, D-65232 Taunusstein

Als Verfahren zur ortsaufgelösten XPS- Spektroskopie wurde ein Photoemissionselektronenmikroskop (PEEM) eingesetzt. Unter Verwendung eines konventionellen Laborröntgenmonochromators konnten micro-XPS Spektren aus Probenbereichen kleiner als 100µm aufgenommen werden. Als Hochpassenergiefilter wurde ein Retarding-Field-Analyser (RFA) mit Doppel-Channelplate eingesetzt, der wahlweise bildgebend oder im integralen Zählmodus betrieben werden kann. Es werden mikro- XPS Spektren eines geflashten W(110) Einkristalls, einer in-situ aufgedampften Silberschicht, eines GaAs-Wafers und einer gesputterten Pd/Si-Mikrostruktur vorgestellt und mit micro-XPS unter Verwendung von Synchrotronstrahlung (BESSY, Berlin) verglichen. Weiterhin stellen wir ein Verfahren vor, welches es erlaubt, die Abstimmung der Abbildung bei höheren Elektronenenergien unabhängig von der Röntgenquelle zu optimieren. Gefördert vom BMBF, FKZ 13N7863