Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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O: Oberflächenphysik

O 38: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)

O 38.1: Vortrag

Freitag, 30. März 2001, 11:15–11:30, C

Ag-induzierte Nano-Facettierung von vicinalem Si(001) — •J. Bauer, R. Hild und M. Horn-von Hoegen — Institut für Laser- und Plasmaphysik, Universität Essen, 45117 Essen

Ag-Adsorption auf einer Si(001)4^∘-[110]-Fläche bei Temperaturen zwischen 550^∘ und 700^∘C führt zu einer Umordnung der ursprünglichen Doppelstufen-Folge in eine Stufenfolge mit höheren Stufenbündeln. Deren mittlere Stufenhöhe läßt sich durch die Substrattemperatur während der Adsorption einstellen. Zur Charakterisierung dieser Stufenfolgen werden mit SPA-LEED (k_∥,k_⊥)-Schnitte des reziproken Raumes aufgenommen. Diese lassen sich gut mit Simulationen solcher Schnitte zu eindimensionalen Stufenverteilungen vergleichen. Auf den (001)-Terrassen bildet sich eine (3×2)-Rekonstruktion, die mit STM-Messungen atomar aufgelöst werden konnte. Bei Adsorptionstemperaturen um 700^∘C erhält man große, gut geordnete Stufen, die als Basis zur Untersuchung der selektiven Deposition von Metallatomen (hier Gold) an Stufenkanten dienen können. Nach Adsorption von Gold bei RT und bei 550^∘C wurde keine Stufendekoration beobachtet, bei 550^∘C jedoch eine goldinduzierte (6×8)-Rekonstruktion.