O 38: Adsorption an Oberfl
ächen (IV)
Freitag, 30. März 2001, 11:15–13:15, C
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11:15 |
O 38.1 |
Ag-induzierte Nano-Facettierung von vicinalem Si(001) — •J. Bauer, R. Hild und M. Horn-von Hoegen
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11:30 |
O 38.2 |
Untersuchung der initialen Reaktionsplätze von molekularem Wasserstoff auf Si(001) mittels STM und Nanosekunden-Laserdesorption — •M. Dürr, Z. Hu, A. Biedermann, U. Höfer und T. F. Heinz
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11:45 |
O 38.3 |
Adsorption von Ethylen auf flachen und gestuften Si(100)- und Ge/Si(100)-Oberflächen — •D. Bröcker, D. Menzel und W. Widdra
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12:00 |
O 38.4 |
Electronic properties of Si surfaces during electrochemical deposition of organic molecules — •Prosper Hartig, Joerg Rappich, and Thomas Dittrich
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12:15 |
O 38.5 |
HREELS Study of Benzene on Si(001)-(2×1): Identification of a Step Species — •B. Naydenov, K.L. Kostov, and W. Widdra
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12:30 |
O 38.6 |
Synthese von Graphitinseln durch eine Oberflächen-Induzierte Reaktion — •Gunda Beernink, Markus Gunia und Christof Wöll
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12:45 |
O 38.7 |
Structural and electronic properties of a molecular wire — •Jens Kuntze, Hao Tang, André Gourdon, Christian Joachim, and Richard Berndt
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13:00 |
O 38.8 |
Molekularer Schalter realisiert durch die Manipulation einzelner Moleküle mit dem Tieftemperatur-Rastertunnelmikroskop — •Francesca Moresco, Gerhard Meyer, Karl-Heinz Rieder, Andre Gourdon, Hao Tang und Christian Joachim
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