SYOD 1: Oxidische Dünnschichten
Thursday, March 29, 2001, 14:30–18:00, J
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14:30 |
SYOD 1.1 |
Invited Talk:
HTSL-Dünnschichten für Anwendungen der Elektrotechnik — •B. Utz, R. Nies, W. Schilling, B. Seebacher, W. Schmidt und H.-W. Neumüller
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15:00 |
SYOD 1.2 |
Invited Talk:
Textur- und Mikrostrukturentwicklung bei ionenstrahlunterstützter Deposition von MgO-Schichten — •R. Hühne
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15:30 |
SYOD 1.3 |
Invited Talk:
Mechanismen der ionenstrahlunterstützten Texturbildung in Yttrium-stabilisierten Zirkondioxid-Filmen — •J. Dzick, S. Sievers, L. O. Kautschor, K. Thiele, C. Brandt, Ch. Jooss, J. Hoffmann und H. C. Freyhardt
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16:00 |
SYOD 1.4 |
Invited Talk:
Das CSD-Verfahren - Ein hochflexibler Weg zur Herstellung oxidkeramischer Dünnschichten für die Mikroelektronik und Mikrosystemtechnik — •Theodor Schneller
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16:30 |
SYOD 1.5 |
Invited Talk:
Etching of refractory metal electrodes and complex oxides — •Hermann Kohlstedt, Stefan Schneider, and Rainer Waser
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17:00 |
SYOD 1.6 |
Invited Talk:
Magnetotransporteigenschaften dünner Schichten magnetischer Perowskite — •Gerhard Jakob, Wilhelm Westerbug, Frank Martin, Daniel Reisinger und Nicole Auth
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17:30 |
SYOD 1.7 |
Invited Talk:
Exchange coupling in LaFeO3 / Co thin film systems — •Jin Won Seo, Jean Fompeyrine, Heinz Siegwart, and Jean-Pierre Locquet
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