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Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm

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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik

VA 1: Vakuumverfahrenstechnik: EUV-Lithografie

Montag, 26. März 2001, 09:30–10:50, R221

09:30 VA 1.1 Hauptvortrag: Der Weg zur EUV-Lithografie — •Wolfgang Rupp
10:10 VA 1.2 Hauptvortrag: Optical Lithography at 157 nm and the impact on the performance of photoresists — •Wolfgang Radlik
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