Hamburg 2001 – wissenschaftliches Programm
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VA: Vakuumphysik und Vakuumtechnik
VA 1: Vakuumverfahrenstechnik: EUV-Lithografie
Montag, 26. März 2001, 09:30–10:50, R221
09:30 | VA 1.1 | Hauptvortrag: Der Weg zur EUV-Lithografie — •Wolfgang Rupp | |
10:10 | VA 1.2 | Hauptvortrag: Optical Lithography at 157 nm and the impact on the performance of photoresists — •Wolfgang Radlik | |