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P: Plasmaphysik

P 23: Poster: Plasmatechnologie, Plasma-Wand-Wechselwirkung, Staubige Plasmen, Plasmadiagnostik

P 23.26: Poster

Mittwoch, 20. März 2002, 17:40–18:40, HZO Foyer

Untersuchung der CO/CO₂-Balance in einem induktiv gekoppelten CH₄/O₂-Plasma — •I. Möller, A. Serdioutchenko und H. Soltwisch — Institut für Experimentalphysik V, Ruhr-Universität Bochum

und CO₂ in einem induktiv betriebenen RF-Plasma (ICP, f = 13.56 MHz ) wurde in Abhängigkeit von verschiedenen externen Parametern (Durchflußrate, Leistung und Mischungsverhältnis der beiden Füllgase CH₄ und O₂) mittels Absorptionsspektroskopie mit Laserdioden untersucht. Die Leistungseinkopplung zeigt den typischen Übergang zwischen kapazitiver und induktiver Mode, welcher sich in stark unterschiedlichen Elektronendichten und molekularen Zusammensetzungen widerspiegelt. Ebenso wird das aus Edelgasentladungen bekannte Hystereseverhalten beobachtet, welches durch das Mischungsverhältnis stark beeinflußt wird. Im Vergleich mit Ergebnissen aus einer Parallelplatten (PP)-Entladung ergeben sich erste Hinweise, daß beide Einkoppelmechanismen zu stark unterschiedlichen Reaktionskanälen führen. Zwar nehmen die molekularen Dichten in beiden Moden linear mit der eingekoppelten Leistung zu, doch ist die CO-Dichte im Gegensatz zur PP- Entladung immer sehr viel größer als die CO₂-Dichte, was auf eine Erhöhung der Dissoziation von CO₂ hindeutet. Mit längerer Aufenthaltsdauer der Teilchen im aktiven Volumen nehmen die Konzentrationen beider Kohlenstoffoxide zu. Einige Prozesse, wie das Auftreten von Kohlenstoffoxiden in reinen Sauerstoffentladungen, können nicht mehr durch Volumenreaktionen sondern nur durch Oberflächenwechselwirkungen erklärt werden.