Bereiche | Tage | Auswahl | Suche | Downloads | Hilfe

P: Plasmaphysik

P 23: Poster: Plasmatechnologie, Plasma-Wand-Wechselwirkung, Staubige Plasmen, Plasmadiagnostik

P 23.3: Poster

Mittwoch, 20. März 2002, 17:40–18:40, HZO Foyer

Untersuchung der Staubbildung in einer kapazitiv gekoppelten GEC-Zelle — •Suk-Ho Hong¹, Johannes Berndt² und Jörg Winter³ — ¹hong@plas.ep2.ruhr-uni-bochum.de — ²jb@plas.ep2.ruhr-uni-bochum.de — ³jw@plas.ep2.ruhr-uni-bochum.de

Die komplexe Plasma-Oberflächen-Wechselwirkung reaktiver Plasmen ist durch eine Vielzahl von Ionensorten und neutralen Radikalen unterschiedlicher Energieverteilung charakterisiert. Je nach Entladungsparametern und Prozeßführung können zudem im Plasma gebildete Staubteilchen einen wesentlichen Anteil des auf das Substrat fallenden Speziesstromes ausmachen. Sowohl die räumliche Verteilung der entstehenden Staubpartikel als auch ihre zeitliche Entwicklung weisen ein komplexes Verhalten auf, das sowohl durch die Entladungsgeometrie (Plattengröße, Neutralgasdynamik, etc.) als auch durch die Gasart (Methan, Acetylen) stark beeinflußt werden kann. Neben den Entladungsparametern erweist sich auch die Art der Prozeßführung als ein wesentliches Kriterium, daß letztlich die Menge der auf das Substrat fallenden Staubteilchen festlegt. Durch den Einsatz eines Ellipsometers als in-situ Diagnostik können neben dem Wachstum der a-C:H-Schichten auch teilweise Aussagen über die Bedeckung der Filmoberflächen mit Staubpartikeln getroffen werden. Staubbildung und Staubdynamik werden mit Hilfe von Laserstreumethoden analysiert.