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PV: Plenarvorträge

PV VIII

PV VIII: Plenarvortrag

Mittwoch, 20. März 2002, 14:30–15:15, HZO 30

ICP-Plasmen: Grundlegende Untersuchungen und neue Anwendungen — •Peter Awakowicz¹, Peter Scheubert² und Roland Schwefel¹ — ¹TU München, Lehrstuhl f. Technische Elektrophysik, Arcistr. 21, 80290 München — ²Haaga GmbH, Mozartstr. 39-41, 73072 Donzdorf

Niederdruck-Niedertemperaturplasmen gewinnen in vielen Bereichen zunehmend an Bedeutung: z.B. in der Mikroelektronik zum anisotropen Ätzen feinster Strukturen oder bei der Abscheidung von dünnen Schichten.

Zu den interessantesten Neuentwicklungen dieser Plasmaquellen ist das induktiv gekoppelte Hochfrequenzplasma mit planarer Antenne zu zählen, da hohe Elektronendichten bei geringen Randschichtspannungen erreicht werden, und die Plasmen über einen weiten Druckbereich problemlos betrieben werden können.

Für die Charakterisierung dieser neuartigen Quellen soll die Anwendung verschiedener Diagnostiken, die Messung mit Langmuirsonden, die optische Spektroskopie sowie die Massen-Energiespektrometrie eng verzahnt werden mit einer geeigneten Simulation, basierend auf einem hydrodynamischen Ansatz für das Plasma und einem elektrodynamischen zur Beschreibung der eingespeisten HF-Energie.

Die Resultate zeigen einerseits eine Fülle von wesentlichen Zusammenhängen zwischen den externen Parametern und den räumlichen Verläufen der gemessenen oder berechneten Plasmaparameter und ermöglichen andererseits die Erstellung von Designregeln zum Aufbau optimierter Quellen.