Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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CPP: Chemische Physik und Polymerphysik

CPP 18: Nanostrukturierte Materialien

CPP 18.2: Vortrag

Donnerstag, 14. März 2002, 11:20–11:40, H39

Nanostrukturierung von Selbstaggregierenden Hydroxybiphenyl Monolagen auf Si(111) Oberflächen mittels Elektronenstrahllithographie — •Alexander Küller¹, Volker Stadler¹, Wolfgang Geyer¹, Wolfgang Eck¹, Armin Gölzhäuser¹, Michael Grunze¹, Thomas Weimann² und Klaus Edinger³ — ¹Angewandte Physikalische Chemie, Universität Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 253, 69120 Heidelberg — ²Physikalisch Technische Bundesanstalt — ³University of Maryland

Selbstaggregierende Monolagen (SAMs) aus aromatischen Hydroxybiphenylen wurden auf wasserstoffterminierten Si(111) Oberflächen hergestellt, mittels Photoelektronenspektroskopie und Rasterkraftmikroskopie charakterisiert und anschließend durch Elektronenbeschuß modifizert. Dabei zeigte sich, daß die SAMs vernetzen und somit als Negativresist beim naßchemischen KOH-Ätzen von Silizium eingesetzt werden können. Durch Proximity Printing mit niederenergetischen (300 eV) Elektronen und durch serielles Elektronenstrahlschreiben (2.5 keV) wurden Silizium Nanostrukturen mit lateralen Dimensionen unterhalb 40 nm hergestellt.