Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm
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DS: Dünne Schichten
DS 13: Schichteigenschaften II
DS 13.1: Vortrag
Mittwoch, 13. März 2002, 16:30–16:45, HS 31
Nano-XAS und Nano-XPS mit PEEM — •Ch. Ziethen1, P. Bernhard1, F. Wegelin1, A. Krasyuk1, H. Hilgers2, M. Escher3, M. Schreck4, F. Senf5 und G. Schönhense1 — 1Johannes Gutenberg Universität, Institut für Physik, D-55099 Mainz — 2IBM Speichersysteme Deutschland GmbH, D-55131 Mainz — 3FOCUS GmbH, D-65510 Hünstetten/ Görsroth — 4Universität Augsburg, Institut für Physik, D-86135 Augsburg — 5BESSY GmbH, D-12489 Berlin
XAS und XPS (X-ray Absorption Spectroscopy; X-ray Photoelectron Spectroscopy) sind in der Materialforschung etablierte chemisch/ spektroskopische Analyse-methoden. Die weitverbreitete Strukturierung von komplexen elektronischen/ magnetischen Funktionseinheiten im sub-µ- Bereich fordert allerdings einfache Kombinationsgeräte, mit denen chemische Analysen auf Größenskalen deutlich unterhalb 500 nm möglich sind. Daher sind Entwicklungsfortschritte in diesem Gebiet von größter Bedeutung. Wir zeigen, daß mit einem Standard- Photoemissions- Elektronenmikroskop mit durchstimmbarer weicher Röntgenstrahlung als Anregungsquelle (BESSY II) Röntgenabsorptions- Spektromikroskopie mit Lateralauflösung bis zu etwa 20 nm möglich ist. Wird das Elektronenmikroskop mit einem in der Säule integrierten Energiefilter (Retarding Field Analysator, [1]) bei fester Anregungsenergie (bis zu 1300 eV) betrieben, kann abbildende XPS- Spektroskopie mit einer Ortsauflösung unterhalb von 300 nm durchgeführt werden. Die untersuchten Proben waren Diamantnukleationskeime, in-situ aufgedampfte Silberstrukturen auf Tantal und mit SIMS strukturierte Festspeicherplatten. Gefördert vom BMBF, FKZ 13N7759, 13N7863 [1] M. Merkel et al., Surf. Sci. 480 (2001) 196