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DS: Dünne Schichten

DS 22: Multilayer II

DS 22.1: Vortrag

Donnerstag, 14. März 2002, 15:00–15:15, HS 31

Mikrostruktur und Transporteigenschaften von Ni/NiO-Vielfachschichten — •Sebastian Dreyer¹, Carsten Herweg¹, Jörg Hoffmann², Christine Borchers¹, Jörg Wiesmann³, Sibylle Sievers^1,2 und Herbert C. Freyhardt^1,2 — ¹Institut für Materialphysik, Universität Göttingen, 37073 Göttingen — ²Zentrum für Funktionswerkstoffe, 37073 Göttingen — ³GKSS Forschungszentrum, Abt. WTB, 21502 Geesthacht

Die Methode des reaktiven Ionenstrahlsputterns unter variierendem Reaktivgaspartialdruck erlaubt Vielfachschichtkombinationen mit unterschiedlichen physikalischen Eigenschaften. Als Modellsystem für nichtmischende, magnetische Schichtsysteme wurden Ni/NiO-Vielfachschichten präpariert, eine Kombination aus einem leitfähigen Ferro- und einem isolierenden Antiferromagneten. Die mittels XRD und TEM untersuchten Schichtpakete weisen neben der periodischen Lagenstruktur eine charakteristische Mikrostruktur mit ausgeprägtem Säulenwachstum auf. Diese Schichtkombination zeigt komplexe Transporteigenschaften. Temperaturabhängige Widerstandsmessungen der wie hergestellten Schichtpakete zeigen zu tiefen Temperaturen einen anormalen, logarithmischen Widerstandsanstieg, der auf ein kondoähnliches Verhalten im Ni/NiO-System hindeutet. Im weiteren wurden magnetoresistive Messungen bei T = 4,2K durchgeführt. Die Austauschanisotropie infolge Kopplung der Grenzflächenspins im Ni und NiO führt zu einer ausgeprägt anisotropen Magnetwiderstandscharakteristik. Nach thermisch induziertem Zerfall der Schichtstruktur verschwindet der Anstieg im Widerstand zu tiefen Temperaturen und auch das anisotrope Magnetwiderstandsverhalten.