Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm

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DS: Dünne Schichten

DS 27: Postersitzung

DS 27.9: Poster

Dienstag, 12. März 2002, 15:30–17:30, Poster Physik B

Plasmamonitor-Untersuchungen während der Abscheidung von Indium mittels DC-Magnetron — •Oleg Zhigalov¹, Hartmut Steffen² und Rainer Hippler² — ¹Department of Physics, St.Petersburg State University, Russia, 198904, Saint Petertersburg, Petrodvoretz Ulianovskaja st. 1 — ²Inst. für Physik, Universität Greifswald, Domstr. 10a, 17489 Greifswald

Für die plasmaaktivierte Herstellung dünner Schichten ist neben der Substrattemperatur und der Energie der zu deponierenden Teilchen auch deren Ionisierungsgrad bzw. die Ionenstromdichte zum Substrat von entscheidender Bedeutung. Während der Schichtabscheidung mittels Magnetron (balanced mode) sind Ionisierungsgrad und Ionenstromdichten zum Substrat gering. Für einige Anwendungen ist eine höhere Ionenstromdichte vorteilhaft. Eine wesentliche Erhöhung der Ionenstromdichten zum Substrat kann durch den Einsatz eines unbalanced Magnetron erreicht werden. Am Beispiel des Magnetron Sputterns von Indium wurden die Ionenstromdichten zum Substrat mittels energieaufgelöster Massenspektrometrie gemessen. Das verwendete Planarmagnetron kann durch Veränderung der Anordnung der Permanentmagneten sowohl im balanced als auch im unbalanced mode betrieben werden. Der Einfluss der Magnetfeldkonfiguration auf die Ionenstromdichten zum Substrat und die Verteilungsfunktionen der verschieden Ionen wird in Abhängigkeit von der Magnetronleistung und dem Prozessdruck dargestellt und diskutiert.