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HL: Halbleiterphysik

HL 28: Quantenpunkte und -dr
ähte: Herstellung und Charakterisierung

HL 28.10: Vortrag

Mittwoch, 13. März 2002, 16:45–17:00, H17

Herstellung von sub-10nm Goldlinien mit Hilfe von 30kV Elektronenstrahllithographie und lift-off — •Frank Lehmann, Georg Richter, Tanja Borzenko, Volkmar Hock, Georg Schmidt und Laurens W. Molenkamp — Physikalisches Institut (EP3), Universität Würzburg, 97074 Würzburg, Germany

Wir berichten ueber die Herstellung von 5nm Goldlinien mit Hilfe von 30kV Elektronenstrahllithographie auf einem herkömmlichen Zwei-Lagen PMMA Photolack und lift-off. 30nm Abstände zwischen den Linien konnten erreicht werden. Einzelheiten des Verfahrens werden vorgestellt und die Abhängigkeit der Auflösung von verschiedenen Schichtdicken des Photolacksystems diskutiert.