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MA: Magnetismus

MA 10: Poster : Dünne Schichten(1-21),Spinabh.Transp.(22-39),Exch.Bias(40-51),Spindyn.(52-55),Mikromag.(56-66),Partikel(67-74),Abb.Verf.(75-77),Oberfl.+Spinelektr.+Elektr.Theo+Mikromag(75-87),PÜ+Aniso+Werkst/Leg.(88-103),Mol.Mag.+N-dim+Messm.+Postdead(104-111

MA 10.60: Poster

Dienstag, 12. März 2002, 15:00–19:00, Bereich A

Untersuchung der Ummagnetisierung von mittels Ionenbeschuß magnetisch strukturierten NiFe/FeMn Exchange-Bias Proben — •S. Poppe¹, J. Fassbender¹, T. Mewes¹, A. Mougin¹, B. Hillebrands¹, D. Engel¹, A. Ehresmann¹, H. Schmoranzer¹, G. Faini², K. J. Kirk³ und J. N. Chapman³ — ¹Fachbereich Physik und Schwerpunkt Materialwissenschaften, Universität Kaiserslautern, Erwin-Schrödinger-Str. 56, 67663 Kaiserslautern — ²Laboratoire de Photonique et de Nanostructure, 196 avenue H. Ravera, B.P. 29, 92222 Bagneux Cedex, France — ³Department of Physics and Astronomy, University of Glasgow, Glasgow G12, U.K.

Mittels He⁺-Ionenbestrahlung lassen sich sowohl die Richtung als auch die Grösse des Exchange-Bias Feldes lokal ohne Beeinflussung der Probentopographie einstellen [1]. Dieser Effekt wurde genutzt, um NiFe/FeMn-Bilagen magnetisch zu strukturieren. Mittels Elektronenstrahllithographie wurde Photolack auf den Proben strukturiert, welcher als Maske für die Ionenbestrahlung diente. Die lokale Magnetisierungsumkehr wurde in Abhängigkeit von Grösse und Dimension der Strukturen mittels Lorentz-Mikroskopie untersucht. Es wurde ein Limit für die Strukturgrösse in diesen Proben gefunden, unterhalb dessen die dipolare Wechselwirkung innerhalb des Ferromagneten über die Kopplung an den Antiferromagneten dominiert.

[1] J. Appl. Phys. 89, 6606 (2001)