Regensburg 2002 – wissenschaftliches Programm
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O: Oberflächenphysik
O 13: Postersitzung (Adsorption an Oberfl
ächen, Elektronische Struktur, Magnetismus in reduzierten Dimensionen, Epitaxie und Wachstum, Halbleiteroberfl
ächen und -grenzfl
ächen, Organische Dünnschichten)
O 13.48: Poster
Montag, 11. März 2002, 18:00–21:00, Bereich C
Wachstumsverhalten von Alkalihalogeniden auf vicinalen Metallsubstraten — •A. Riemann1, S. Fölsch1, J. Repp1, G. Meyer1,2 und K.H. Rieder1 — 1Institut für Experimentalphysik, FU Berlin, Arnimallee 14, 14195 Berlin — 2Paul-Drude-Institut Berlin, Hausvogteiplatz 5-7, 10117 Berlin
Das Wachstum von Alkalihalogenid (AH)-Filmen (NaCl und KCl) auf vicinalen Cu- und Ag-Oberflächen wurde mit Hilfe hochauflösender Elektronenbeugung (SPALEED) und STM untersucht. Die verwendeten Substrate sind (i) Cu(221), welches aus (111)-Terrassen und (111)-Stufen (Abstand 7.65 Å) besteht, (ii) Ag(211) mit (111)-Terrassen und (100)-Stufen (Abstand 7.08 Å), sowie (iii) Cu(532), welches eine gekinkte (211)-Oberfläche (Stufenabstand 6.25 Å) ist. Auf Cu(221) wächst NaCl epitaktisch auf dem unfacettierten Substrat und bildet (100)-orientierte Filme aus. Dabei verläuft die polare <110>-Richtung in der Filmebene parallel zu den intrinsischen Cu-Stufen. Beim System KCl/Ag(211) entsteht eine regelmäßige „Auf-und-Ab“-Facettierung mit KCl bedeckten (311)-Facetten und unbedeckten Ag(111)-Facetten. Die Deposition von weniger als einer Monolage NaCl auf Cu(532) führt hingegen zu einer 2-dimensionalen Facettierung, d.h. zur Ausbildung nanoskopischer Pyramiden. Die neue Struktur besteht aus NaCl-bedeckten (311)- und (531)-Facetten sowie unbedeckten (111)-Facetten. Das beobachtete Verhalten bestätigt insgesamt, daß die jeweiligen Filmorientierungen durch Coulombwechselwirkungen zwischen den ionischen Ladungen des AH-Films und den elektrostatischen Dipolen an den Stufen und Kinken des vicinalen Metallsubstrates hervorgerufen werden.