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O: Oberflächenphysik
O 26: Postersitzung (Rastersondentechniken, Nanostrukturen, Teilchen und Cluster, Methodisches, Oxide und Isolatoren, Grenzfl
äche fest-flüssig, Struktur und Dynamik reiner Oberfl
ächen, Oberfl
ächenreaktionen, Zeitaufg. Spektroskopie, Phasenüberg
änge
O 26.27: Poster
Mittwoch, 13. März 2002, 14:30–17:30, Bereich C
Abklingmechanismen der Plasmonresonanz in metallischen Nanoteilchen: Systematische Untersuchungen der Dephasierungszeit — •T. Ziegler, C. Hendrich, J. Bosbach, T. Vartanyan, F. Stietz und F. Träger — Experimentalphysik I, Universität Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel
Oberflächenplasmonen in metallischen Nanoteilchen zerfallen auf einer Zeitskala von nur wenigen Femtosekunden. Um die für die Dephasierung der kollektiven elektronischen Anregungen verantwortlichen Prozesse systematisch zu untersuchen, wurde eine neue Technik entwickelt. Diese basiert auf der Methode des spektralen Lochbrennens und nutzt die Möglichkeit der gezielten Manipulation metallischer Nanoteilchen durch gepulstes Laserlicht aus [1][2]. Auf diese Weise kann der störende Einfluss der inhomogenen Verbreiterung der Plasmonresonanz ausgeschaltet und die homogene Linienbreite Γhom bestimmt werden. Die Dephasierungszeit erhält man dann mit T2 = 2 ℏ/Γhom. Wir berichten über Experimente an Ag-Clustern auf Saphir und Quarz: Es wurde die Dephasierungszeit gemessen. Sie ist für große Cluster konstant und entspricht dem Wert, den man auch aus der dielektrischen Funktion des Festkörpers erhält. Für kleine Cluster nimmt sie jedoch stark ab, was auf zusätzliche Dämpfungsmechanismen aufgrund der reduzierten Dimension hinweist, wie Elektron-Oberflächenstreuung oder chemische Dämpfung.
[1] J. Bosbach, et al.: Eur. Phys. J. D 16, 213 (2001)
[2] F. Stietz, et al.: Phys. Rev. Lett. 84, 5644 (2000)