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O: Oberflächenphysik

O 26: Postersitzung (Rastersondentechniken, Nanostrukturen, Teilchen und Cluster, Methodisches, Oxide und Isolatoren, Grenzfl
äche fest-flüssig, Struktur und Dynamik reiner Oberfl
ächen, Oberfl
ächenreaktionen, Zeitaufg. Spektroskopie, Phasenüberg
änge

O 26.38: Poster

Mittwoch, 13. März 2002, 14:30–17:30, Bereich C

Bestimmung elektrischer Feld- und Potentialverteilungen aus emissionselektronenmikroskopischen Abbildungen ohne Beschränkung des Strahlengangs der Elektronen — •S.A. Nepijko, A. Gloskovskii und G. Schönhense — Universität Mainz

Für Messung der elektrischen Feld- und Potentialverteilung an Objektoberflächen kann das Emissionselektronenmikroskop (EEM) genutzt werden. Aufgrund der Wechselwirkung der Elektronen mit elektrischen Mikrofeldern, kommt es zu einer Verschiebung der Elektronentrajektorien. Stark von der optischen Achse abweichende Elektronenstrahlen können mit Hilfe einer Blende ausgeblendet werden [1]. Die Abbildung ohne Einschränkung des Elektronenstrahlengangs ist deshalb von besonderem Interesse, weil mit diesem Kontrastmechanismus nur eine Umverteilung der Elektronenstromdichte auf dem EEM-Schirm verbunden ist. Die Gesamtintensität des Bildes bleibt jedoch erhalten. Obwohl ohne Beschränkung des Elektronenstrahls der Kontrast abnimmt, kann gezeigt werden, dass die Genauigkeit der Rekonstruktion trotzdem besser ist. Die Inversion für die Feldrekonstruktion aus dem experimentell bestimmten Bildkontrast ist mathematisch problematisch. Daher ist zur Lösung der Integralgleichungen eine Regularisierung notwendig. Ohne Einschränkung des Elektronenstrahlengangs vereinfachen sich jedoch die Formeln des Inversionsproblems zu einer reinen Differentiation der Daten. Aus EEM-Bildern ohne Beschränkung des Strahlenganges eines p-n-Übergangs konnte eine Potentialverteilung rekonstruiert werden.

[1] S.A. Nepijko et al., J. Microsc., 2002, in print